こんにちは。pirika.com CEOの山本です。 今日は34年ぶりに日経平均が最高値を更新したと新聞にありました。 これは半導体産業が生成系AI絡みでとても景気がいいからと言います。 そんな半導体産業を支える素材のうち、レジストの現像液の開発をハンセン溶解度パラメータを使ってやってみましょう。 レジストはエネルギー線が当たったところと、当たらなかったところのポリマーの溶解度の差でパターンを作成します。 パターンが微細になっていくにつれ、溶けて欲しくないところまで溶けてしまいます。 そこで溶かさない溶媒開発が必要になります。
次のパワポ
まず特許からデータを作ります。
HSPiPへ
このデータを読み込みます。そしてGA法を使ってSphereを計算します。 この緑のメッシュの球の中心がレジストポリマーのHSPになります。 ハンセンの溶解球の内側が良溶媒。 そこで、この球の表面あたりにくる溶媒が溶解するか、しないかのギリギリの溶媒になります。 そこで、このOのボタン, Solvent Optimizerのボタンを押します。
ここでRED fitにチェックを入れて、２のボタンを押すと、２溶媒を使って溶解球の表面にくる溶媒を提案します。
パワポ
まず溶解球を計算し、溶媒最適化へ。
次のパワポ
このようにとても簡単に目標のHSPとなる混合溶媒が設計できます。 以上です。 お疲れ様。 あとはおまけです。
パワポ
もしプログラミングが得意なら、3次元空間にプローブを入れて混合溶媒を探しましょう。 プローブを動かす時には、軸を一つ消すと動かしやすいです。 プローブの位置に一番近くなる混合溶媒はリアルタイムで探索されます。 自分でよく使う溶媒を登録しておくといいです。 本当に以上です。